В России создали технологию получения плазмы для ускорения разработки литографов
freepik
Исследователи создали плотную квазистационарную плазму с высокой температурой, которая излучает экстремальный ультрафиолет. Это открытие крайне важно для развития микроэлектроники, где фотолитография используется для формирования мельчайших компонентов микрочипов. Для уменьшения размеров микросхем необходимы новые источники ультрафиолетового излучения, и плазма может стать основой для литографических систем нового типа.
Плазма была получена при помощи уникальной установки, использующей непрерывный терагерцовый лазерный пробой. Ее стабильность обеспечивается благодаря периодически повторяющимся импульсам излучения. В дальнейшем планируется увеличить мощность плазмы в 2-4 раза, наращивая интенсивность терагерцового излучения.
В качестве рабочего вещества для излучения планируется применять ксенон. Разрабатываемую технологию планируется приспособить для компактных устройств, использующих СВЧ-генераторы, которые способны передавать энергию в виде сфокусированного пучка волн, включая возможность применения в космическом пространстве.
Обратите внимание: «Прекращаем работу»: Wildberries и Ozon приняли решение значимое для всех россиян
Пишет ТАСС
